ASML给出的建议就是7nm工艺就要导入EUV光刻机，7nm EUV要比7nm DUV成本低一些。

台积电、三星在7nm，英特尔在自身标准10nm，都还是***用DUVi光刻机，不过那也是本来要发展的技术节点。

台积电也有N7+，就是7nm EUV。

不管是华为，还是中芯国际，都没有必要用DUVi光刻机硬搞5nm。

本身中国大陆的DUVi光刻机就数量有限，产能供不应求，优先提高7nm性能和良品率才是当务之急。

用数学补物理，非摩尔补摩尔，用群计算补单芯片。

任正非…。

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